Gury ething tehnologiýasy esasy amallaryň biridir. Gurakçylykly ýollar ýarym okuwçy önümçiliginde we plazmanyň orçuna möhüm gaz çeşmesidir. Çän meýdançasy soňky önümiň hiline we ýerine ýetirilmegine gönüden-göni täsir edýär. Bu makala esasan, gury düwün ýa-da gury etika amallarynda köplenç ulanylýan gyrgyç gazlaryny paýlaşýar.
FEPRine esasly gazlar: ýalyUglerod tetrafluid (CF4), 8XF.ORUORD (C2F.), Triffroromomat (CHF3) we PerfluRotProPro (C3F8). Bu gazlar Eňňit guraly we SIRCONONPS OLAR BOLAN BOLAN BOLAN BOLAN BOLAR, şyaty maddy aýyrmaga ýetip biler.
Hlor esasly gazlar: hlor ýaly (CL2) ýalyBon Trihicruk (BCL3)we silikon Tetrachqadri (SICL4). Howlagly esaslanýan gaz, ýolluk nukdaýnazaryny we satyjylary gowulaşdyrmak üçin iňeldýänler wagtynda hlorde donlaryny üpjün edip biler.
"Bromatas" ösen gazlar: brine (brom) we bromi ýodlary (Ibr) ýaly. "Omom" gaznylan gazlar belli bir ýaryş proseslerinde, esasanam silniarder karbide ýaly gözki agyr materiallar bolsa, käbir ekin prosesi keseki ýoldaşlygy üpjün edip biler.
Acrotogen esasly we kisloren esasly gazlar: nitrogen trifluid (nf3) we kislorod (O2) ýaly. Bu gazlar, adatça,, bagryň saýlamagyny we möwşeşligini ýokarlandyrmak üçin gözlemek prosesinde reaksiýasyna gönükdirýär.
Bu gazlar Plazma Etching wagtynda fiziki supering we himiki reaksiýalaryň utgaşmasy arkaly maddy ýüzüň inakasiýasyny ýetýär. Eşeking gazyny saýlap, gurbalyň, ýoluň senylygyňy saýtyň talaplaryna we islenýän görnüşli Etkingfekt derejesinde saýlanylýan materialyň görnüşine baglydyr.
Post wagtyňyz: Fewral-08-2025
